發(fā)布時(shí)間:2023/3/1 10:17:23
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近日,中國電科46所成功制備出我國首顆6英寸氧化鎵單晶,達到國際最高水平。
氧化鎵是新型超寬禁帶半導體材料,擁有優(yōu)異的物理化學(xué)特性,在微電子與光電子領(lǐng)域均擁有廣闊的應用前景。但因具有高熔點(diǎn)、高溫分解以及易開(kāi)裂等特性,因此,大尺寸氧化鎵單晶制備極為困難。
中國電科46所氧化鎵團隊聚焦多晶面、大尺寸、高摻雜、低缺陷等方向,從大尺寸氧化鎵熱場(chǎng)設計出發(fā),成功構建了適用于6英寸氧化鎵單晶生長(cháng)的熱場(chǎng)結構,突破了6英寸氧化鎵單晶生長(cháng)技術(shù),具有良好的結晶性能,可用于6英寸氧化鎵單晶襯底片的研制,將有力支撐我國氧化鎵材料實(shí)用化進(jìn)程和相關(guān)產(chǎn)業(yè)發(fā)展。
近年來(lái),中國電科圍繞國家戰略需求,在氧化鎵、氮化鋁、金剛石等超寬禁帶半導體材料領(lǐng)域砥礪深耕并取得重大突破和標志性成果,有力支撐了我國超寬禁帶半導體材料的發(fā)展。
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